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1、金屬蝕刻簡介
金屬蝕刻(etching)是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。金屬蝕刻技術(shù)可以分為濕蝕刻(wet etching)和干蝕刻(dry etching)兩類。
2、金屬蝕刻的原理
通常所指金屬蝕刻也稱光化學(xué)金屬蝕刻（photochemical etching），指通過曝光制版、顯影后，將要金屬蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在金屬蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。 最早可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版，也廣泛地被使用于減輕重量(Weight Reduction)儀器鑲板，銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等的加工；經(jīng)過不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，亦可以用于航空、機(jī)械、化學(xué)工業(yè)中電子薄片零件精密金屬蝕刻產(chǎn)品的加工，特別在半導(dǎo)體制程上，金屬蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。
3、蝕刻的工藝流程
曝光法：開料→清洗板材(不銹鋼其它金屬材料)→烘干→涂布→烘干→曝光→ 顯影→蝕刻→脫膜→OK
網(wǎng)印法：開料→清洗板材(不銹鋼其它金屬材料)→絲網(wǎng)印→蝕刻→脫膜→OK
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