噴霧除臭裝置

  有機(jī)惡臭氣體在風(fēng)機(jī)的作用下UV光解除臭設(shè)備后，UV凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束、臭氧O3及納米光催化TiO2等技術(shù)組合起來(lái)對(duì)廢氣進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使廢氣降解轉(zhuǎn)化成無(wú)害無(wú)味化合物、水和二氧化碳，再通過(guò)排風(fēng)管道排出，經(jīng)過(guò)處理后有的機(jī)廢氣排遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)國(guó)家排放標(biāo)準(zhǔn)。 UV光解除臭設(shè)備用于噴涂廠、噴涂廠、煉油廠、橡膠廠、塑料廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站等惡臭氣體、工業(yè)有機(jī)廢氣的凈化處理，是目前投資運(yùn)營(yíng)成本低、維護(hù)方便、凈化效果好的工業(yè)除臭設(shè)備。

  UV光解除臭設(shè)備所采用的光催化技術(shù)，可以常溫下進(jìn)行，不需要加溫，可節(jié)能能源，可將有機(jī)揮性性氣體進(jìn)行徹底凈化而不會(huì)產(chǎn)生二次污染，并且具有凈化率高、性能穩(wěn)定、維護(hù) 簡(jiǎn)單，運(yùn)行費(fèi)用低，衛(wèi)生安全等特點(diǎn)。

  目前，UV光解除臭設(shè)備已經(jīng)大量用在噴漆、化工、印刷、紡織、印染、污水、垃圾站等各個(gè)場(chǎng)合，有效的解決了工廠所產(chǎn)生的有機(jī)物對(duì)周?chē)粢约碍h(huán)境所產(chǎn)生困擾，是目前一種性價(jià)比高的除臭設(shè)備。

   UV光解臭設(shè)備采用特殊波段的紫外線輻射電離空氣中的氧氣、水分子，產(chǎn)生強(qiáng)氧化性的自由基，通過(guò)自由基氧化污染物分子，實(shí)現(xiàn)有效去除惡臭、降低有機(jī)揮發(fā)性污染物濃度的功能，利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過(guò)·OH、O3進(jìn)行氧化反應(yīng)，徹底達(dá)到除臭的目的,   UV光解除臭設(shè)備可用于污水處理廠、垃圾廠、制藥廠、煉油廠、化工廠、屠宰廠、養(yǎng)殖廠、飼料加工廠、造紙廠、印刷廠、印染廠、塑料再生廠、實(shí)驗(yàn)室等惡臭氣體的脫臭凈化處理。