超純水設備

電鍍涂裝行業(yè)中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導率在15uS/cm以下的純水。另外在鍍件漂洗時也需用電導率在10uS/cm以下電鍍純水來清洗，電鍍行業(yè)用水處理系統(tǒng)包括電鍍前電鍍液配制用純水系統(tǒng)、電鍍漂洗廢水中稀有金屬回收漂洗水循環(huán)利用電鍍廢水處理零排放系統(tǒng)。通常系統(tǒng)由預處理，超濾，反滲透(RO)，離子交換，EDI設備等組成，以滿足電鍍行業(yè)對各種水質的要求。

涂裝電鍍用純水設備發(fā)展歷程　　近幾十年以來，混合床離子交換技術一直作為超純水制備的標準工藝。由于其需要周期性的再生且再生過程中使用大量的化學藥品(酸堿)和純水，并造成一定的環(huán)境問題，因此需要開發(fā)無酸堿超純水系統(tǒng)。

正因為傳統(tǒng)的離子交換已經越來越無法滿足現(xiàn)代工業(yè)和環(huán)保的需要，于是將膜、樹脂和電化學原理相結合的EDI技術成為水處理技術的一場革命。其離子交換樹脂的再生使用的是電，而不再需要酸堿，因而更滿足于當今世界的環(huán)保要求。

自從1986年EDI膜堆技術工業(yè)化以來，全世界已安裝了數千套EDI系統(tǒng)，尤其在制藥、半導體、電力和表面清洗等工業(yè)中得到了大力的發(fā)展，同時在廢水處理、飲料及微生物等領域也得到廣泛使用。

電子行業(yè)純水設備要求

隨著電子和半導體工業(yè)的發(fā)展，人們對生產中所使用的超純水的質量要求在不斷地提高，超純水的標準也在不斷提高。目前超純水的要求主要有:水的電阻率接近理論值，25℃下為18Mcm;對微粒、細菌等有害雜質的控制也是極其嚴格的，因為微粒會使半導體的外延層產生尖峰，光刻過程產生***，而細菌本身可視作微粒，且體內含有鈉、鉀、磷等多種微量金屬元素，總有機碳(T 0 C)也會對形成氧化膜產生不良影響。

進水質量、運行流量和樹脂粒度均勻性等主要因素對電子級超純水精制混床離子交換樹脂出水質量的影響。出水質量隨著進水質量的提高而提高，運行流量控制在50一70B V/h時為佳，采用粒度更均勻的樹脂出水質量和周期制水量更好。在一定的運行條下，電子級超純水精制混床離子交換樹脂完全能滿足電子行業(yè)對出水水質的要求。

隨著超純水技術在半導體行業(yè)的應用口益廣泛，半導體制造單位對超純水的要求也越來越高。半導體行業(yè)是一個高能耗的行業(yè)。在半導體產品制造過程中，由于生產設備的精密性和生產工藝的復雜性，對其配套設施提出了很高的要求，尤其對作為半導體行業(yè)血脈的超純水系統(tǒng)更是高之又高。

1超純水制造工藝

半導體行業(yè)超純水制造工藝可以概述為4個部分，分別為預處理部分、RO部分、電去離子部分和拋光混床部分。在有些半導體廠中，也有用“陰床十陽床”代替電去離子裝置的，主要根據原水水質和產水水質對弱電解質的要求而定，這里主要探討常用的電去離子工藝川。

1.1預處理部分

預處理的作用是對原水進行粗加工.提供符合Ro進水要求的給水。其主要用來去除原水中的懸浮物、膠體，使SD≤4;去除游離氯等氧化性物質;去除部分有機物;降低LSI ,避免碳酸鹽結垢。

在超純水制造工藝中，傳統(tǒng)預處理方式是“多介質過濾器+活性炭過濾器”。而該半導體制造廠采用了“粗過濾器+超濾裝置”作為超純水系統(tǒng)的預處理部分，主要原因如下:

(I)傳統(tǒng)的預處理過程中SDI值不好控制，一般>5，不利于后續(xù)的一級反滲透系統(tǒng)的運行;而超濾裝置的出水SDI值比較穩(wěn)定(}1)，能夠有效地保證一級反滲透系統(tǒng)的運行。

(2)傳統(tǒng)的預處理方式占地而積大，而“粗過濾器+超濾裝置”占地而積小，節(jié)約了基建費用。

(3)與傳統(tǒng)的預處理方式在更換填料時需要大量的人力和物力相比，超濾裝置的更換比較方便。

(4)近年來，由于超濾技術的不斷成熟，系統(tǒng)能夠穩(wěn)定安全地運行，而且超濾膜的價格也有了大幅度的降低，在一次性投資和運行維護費用上跟傳統(tǒng)的預處理方式相比差不多。