純水設(shè)備

實驗室超純水設(shè)備通常由自來水預(yù)處理系統(tǒng)、自來水純化系統(tǒng)、超純化系統(tǒng)三部分組成。預(yù)處理的目的主要是使原水達到反滲透膜分離組件的進水要求，保證反滲透純化系統(tǒng)的穩(wěn)定運行。自來水純化系統(tǒng)主要包括反滲透膜和EDI連續(xù)電流去離子模塊。反滲透膜可以去除原水中95%以上離子、99%以上的有機物、微生物和顆粒，經(jīng)濟高效。EDI模塊通過連續(xù)電流去離子高效去除水中的離子及帶電有機物，水質(zhì)可以達到二級水標準，方便環(huán)保。超純化后處理系統(tǒng)通過多種技術(shù)進一步去除反滲透純水中微量離子、有機物等雜質(zhì)，滿足不同用途的最終水質(zhì)要求。

反滲透純水設(shè)備：

反滲透純水設(shè)備應(yīng)用廣泛，工業(yè)制造領(lǐng)域只要涉及到水的大部分需要進行過濾化處理，一般工業(yè)用水要求是去離子水，也就是除鹽水。工業(yè)純水設(shè)備滿足這些使用需求，而且也是較為經(jīng)濟實惠的純水制取方法。下面我們來介紹一下工業(yè)純水設(shè)備應(yīng)用行業(yè)，不同行業(yè)不同產(chǎn)品制造工藝的需求還需要使用超純水，高純水等。

鍋爐補給水、除鹽水設(shè)備：各種蒸汽鍋爐、火力發(fā)電廠、熱水爐、石化熱力鍋爐等補給水。

電子工業(yè)用超純水設(shè)備： 單晶硅、半導(dǎo)體晶片切割制造、半導(dǎo)體芯片、半導(dǎo)體封裝、引線框架、集成電路、液晶顯示器、導(dǎo)電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝用純水。

一般工業(yè)用純水設(shè)備：鍍膜玻璃、電鍍、表面涂裝、紡織印染、工業(yè)配液、工業(yè)產(chǎn)品清洗等用水。

生物醫(yī)藥行業(yè)用純水設(shè)備：針劑、粉針劑、大輸液、生化制品用水、醫(yī)用無菌水、口服液等符合GMP標準。

精細化工行業(yè)用純水設(shè)備： 化工工藝用水、化學(xué)藥劑、化妝品等用純水。

純凈水設(shè)備在工業(yè)領(lǐng)域中廣泛應(yīng)用，尤其是在電子行業(yè)。在工業(yè)飛快發(fā)展的時代中，純凈水設(shè)備在電子行業(yè)中占著舉足輕重的地位。電子產(chǎn)品的質(zhì)量的成品率，有時候就取決于純凈水設(shè)備產(chǎn)出水質(zhì)的好壞。不同種類的電子器件在生產(chǎn)過程中，所需要的純凈水水質(zhì)也不同。通常一個電子產(chǎn)品制造周期的20%的生產(chǎn)過程中需要使用到超純水。濕法工藝設(shè)備使用的流體中有50%以上為超純水，隨著環(huán)保要求的提高，這一比例還在不斷提高?！?/p>

除此之外，太陽能光伏行業(yè)生產(chǎn)過程對生產(chǎn)用水使用要求非常高，集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，對超純水制備工藝出水水質(zhì)的要求也越嚴格。目前國家工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、 10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。使用電子級超純水設(shè)備可以制取五個標準的水。