產(chǎn)品特點(diǎn):該機(jī)型在多弧離子鍍膜機(jī)的基礎(chǔ)上配置圓柱靶或平面磁控靶,設(shè)備具備離子鍍的高離化率、高沉積速度的特點(diǎn),同時(shí)也具備磁控濺射低溫、穩(wěn)定的優(yōu)點(diǎn),適合鍍各種復(fù)合膜層,,可以做到多復(fù)合膜層一次性完成,膜層具有很高的結(jié)合力、硬度、耐磨系數(shù),特別適合鐘表、五金刀具、工藝品廠家的IPG、IPS、刀具攙雜、復(fù)合膜層的制備。
技術(shù)參數(shù):
▲真空室箱體:主要規(guī)格有800*1000mm、1000*1200mm,并可以根據(jù)客戶具體要求設(shè)計(jì)非標(biāo)產(chǎn)品
▲夾具方式:采用公自轉(zhuǎn)行星式齒輪結(jié)構(gòu),工件速度在1-15轉(zhuǎn)/分鐘可調(diào)。
▲控制氣體方式:采用質(zhì)量流量計(jì)控制,進(jìn)氣穩(wěn)定,反映速度快。
▲靶:采用整體制造技術(shù),嚴(yán)格縝密的磁場(chǎng)設(shè)計(jì)和磁場(chǎng)布局,濺射刻蝕均勻。
▲電源:配置有高頻直流電源(20KW、40KW等規(guī)格)、直流脈沖電源(電壓、占空比可調(diào)節(jié)),逆變電弧電源,并可根據(jù)實(shí)際的情況加裝離子源等輔助設(shè)施。
▲抽氣系統(tǒng):采用國(guó)產(chǎn)品牌機(jī)械泵、羅茨泵、擴(kuò)散泵,根據(jù)其真空室大小確定合理型號(hào)。也可以根據(jù)客戶的需要配備分子泵或者進(jìn)口泵等。
▲抽真空參數(shù):從大氣抽至5*10 ̄3Pa≤15min極限真空度8*10 ̄4Pa控制系統(tǒng)