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濺射靶材,鍍膜靶材

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基本參數(shù)
服務(wù)項目 瀏覽量39 發(fā)布時間2015-06-12
品牌創(chuàng)匯金屬 所在地陜西 寶雞 起訂≥10 公斤
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對濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并且最終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,最終形成薄膜。

濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。 濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。

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