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利用真空狀態(tài)下弧光放電原理的離子鍍膜技術(shù),是率先發(fā)展起來的真空鍍膜方式,具有沉積速率高、結(jié)合牢固、設(shè)備運行穩(wěn)定等優(yōu)點,我們在傳統(tǒng)多弧的基礎(chǔ)上,對靶結(jié)構(gòu)、磁鐵、冷卻等進行了嚴格的改進和設(shè)計,提高了離化率、細化顆粒,膜層和基材結(jié)合更加牢固、膜層更加致密,硬度耐磨性顯著提高,厚度可以控制在0.5微米—5微米之間,是普通裝飾鍍和工具鍍膜的首選機型。
根據(jù)市場的需求公司研制出輔助陽極、磁過濾、矩形平面靶、圓柱旋轉(zhuǎn)電弧靶等衍生產(chǎn)品,沉積的膜層達到納米量級,是制備高硬度、高結(jié)合力、高耐膜性ta-C、DLC、高質(zhì)量金屬膜層的良好選擇。
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▲真空室箱體:主要規(guī)格有800*1000mm、1000*1200mm、1200*1500mm、1500*1600mm、1800*1950mm,并可以根據(jù)客戶具體要求設(shè)計非標產(chǎn)品。
▲夾具方式:采用公自轉(zhuǎn)行星式齒輪結(jié)構(gòu),工件速度在1-15轉(zhuǎn)/分鐘可調(diào),掛具有6軸、8軸、10軸、12軸等各種規(guī)格,適合不同大小尺寸的裝飾、工具鍍膜。
▲控制氣體方式:采用質(zhì)量流量計控制,進氣穩(wěn)定,反應(yīng)速度快,可以配加自動壓強控制。
▲靶:采用整體制造技術(shù),結(jié)構(gòu)合理而簡單,維護更換靶材方便,具有自動/手動引弧功能。
▲電源:配置直流脈沖電源(電壓、占空比可調(diào)節(jié)),逆變電弧電源。
▲抽氣系統(tǒng):采用國產(chǎn)品牌機械泵、羅茨泵、擴散泵,根據(jù)其真空室大小確定合理型號。也可以根據(jù)客戶的需要配備分子泵或者進口泵等。
▲抽真空參數(shù):從大氣抽至5*10 ̄3Pa≤15min極限真空度8*10 ̄4Pa控制系統(tǒng)可以選用手動控制;計算機控制,觸摸屏面板控制。
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